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Pureza nana material del polvo 98,5% del óxido de cobre de Nanoparticles del óxido del semiconductor

Pureza nana material del polvo 98,5% del óxido de cobre de Nanoparticles del óxido del semiconductor

Semiconductor Material Oxide Nanoparticles Copper Oxide Nano Powder 98.5% Purity
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Ampliación de imagen :  Pureza nana material del polvo 98,5% del óxido de cobre de Nanoparticles del óxido del semiconductor Mejor precio

Datos del producto:

Lugar de origen: Hunan China
Nombre de la marca: EASCHEM
Certificación: ISO
Número de modelo: primer grado

Pago y Envío Términos:

Cantidad de orden mínima: 50KGS
Precio: US10-100/KG
Detalles de empaquetado: la bolsa de plástico tejida 50KGs, plataforma 1000KGs uno
Tiempo de entrega: 7 a 15 días
Condiciones de pago: Carta de crédito de Western Union, T/T,
Capacidad de la fuente: 100TONS/MONTH
Descripción detallada del producto
Apariencia: Polvo de Brown oscuro Pureza: minuto 98,5%
Densidad: 6.3-6.49g/cm3 El otro Cas ningún: 1344-70-3
EINECS ningún: 215-269-1 Punto de fusión: 1326℃
Alta luz:

tungstate del cesio

,

nanoparticles cúpricos del óxido

Polvo nano ultrafino Cas del óxido de cobre del Active 98,5% ningún 1317-38-0 para el material del semiconductor

 

 

Aspecto: polvo negro.

Productos de la descomposición: óxido de cobre, oxígeno.

Prohibido: reductor fuerte, aluminio, alcalino-metálico.

propiedad: levemente higroscópico, insoluble en el agua y el etanol, soluble en el ácido, el cloruro de amonio y la solución del cianuro de potasio, disueltos lentamente en la solución del amoníaco, puede reaccionar con la base fuerte.

 

1, tecnología avanzada de la purificación: en curso de purificación, el uso de la investigación y desarrollo independiente de añadidos mejora grandemente la pureza del producto, decidida los productos con el alto contenido de cobre, no contiene impurezas orgánicas, contenido de impurezas metálicas es características bajas, bajas del contenido del cloruro. Se utiliza para complementar la sal de cobre.
2. actividad ultraalta: el proceso de conversión de la baja temperatura se adopta en el proceso de producción, y el crecimiento de grano se realiza en temperaturas más bajas para controlar la aglomeración entre las partículas, asegurando la estupendo-alta actividad del óxido de cobre. El ion de cobre en la solución de la galjanoplastia se puede llenar a tiempo para mantener el contenido de cobre estable.
3, tarifa de disolución rápida: puede disolver rápidamente totalmente en el líquido del baño de la galjanoplastia, garantiza el limpio del líquido del baño de la galjanoplastia, previene la adsorción del añadido líquido de la medicina, control eficaz de añadidos en el cambio del ratio del baño de galvanoplastia, estabilidad proporciona una garantía confiable de la calidad de la galjanoplastia.
4. estabilidad fuerte: el control de proceso estricto y el proceso perfecto de la gestión de calidad en el proceso de producción garantizan la estabilidad del lote.

 

 

Certificado de análisis

 

ARTÍCULO ESPECIFICACIONES RESULTADOS DE LA PRUEBA
Aspecto Polvo rojizo oscuro Polvo rojizo oscuro
Análisis del Ti (%, minuto) 99,9 99,9
Impurezas (%, máximos)
Ni   0,1
AG   0,067
FE   0,06
O   0,001

 

Pureza nana material del polvo 98,5% del óxido de cobre de Nanoparticles del óxido del semiconductor 0

 

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Contacto
Changsha Easchem Co., Limited

Persona de Contacto: andrew.liao

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